随着ASML近期表示其近期订单有20%由中国客户持有，近一半营收来自中国，这家全球最大光刻机厂商未来的经营趋势可以说与中国息息相关。

尽管全球光刻机市场集中度高，ASML、Nikon、Canon三大厂商共占有超过75%的市场份额，但中国市场的特殊需求和增长速度，使得这些国际巨头也难以完全满足中国市场的需求。

中国在光刻机技术方面虽然与国际先进水平存在差距，如中科院曾表示，中国光刻机技术至少落后阿斯麦（asml）15年，但中国在追赶的过程中取得了一定的进展。例如，上海微电子装备有限公司的600系列光刻机，可满足IC制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求，显示出中国在光刻机技术研发方面的进步。

同时，中国市场的快速发展也为光刻机行业提供了难得的发展机遇。2021年中国光刻机需求量增长至581台，市场规模回落至134.41亿元；预计2023年中国需求量增长至727台，这表明中国市场对光刻机的需求持续增长。